RF 整合インピーダンスとプラズマ処理     
RFプラズマ処理のRF電源と供給電力  (RF Power Generator and Pwer Supply)
impedance matching network to Plasma impedance & power control
          本ページは「インピーダンス」を理解し電子回路を読み、高周波(RF:Radio Frequency)の
        伝達はどの様な動作で「RF Power」は供給されるかを高周波入門的に解りやすく解説したい、
        特に、プラズマ処理装置現場の「RF Power」 と「Image impedance」計測の体験を基に、
        または何かのヒントに出来ればと思い記す。     S.2006/02/23 〜 更新 : 2009/01/27

       インピーダンスのマッチングには【動作インピーダンス】を知る事は、その動作を知るのに非常に
        重要なのですが、「動作インピーダンス」の計測は困難なために一般的には「静止インピーダンス」を
        計測した「整合インピーダンス値」を「動作インピーダンス値」と同等とし、
         (静止インピーダンス値は数十%誤差生じる場合がある)
        設計・製作や操作・管理に応用していますが、不整合!や整合器焼損!の多くの課題を生じています、
        新しい【動作インピーダンス】計測方法は、その課題を解決する、手段です。  (2009/07/26)

        * ここで一番の課題は、無損失整合回路と有損失整合回路の考察です!。 
        インピーダンス整合器を完成し、擬似付加接続し負荷試験をした後に、
        インピーダンス整合器と擬似負荷の整合インピーダンスを測定すると、差が生じますが
        この差の考察は重要です・・・!。                            (2010/07/12)
  4.特許・RFプラズマ生成制御 
Counter
連 絡 帳
(掲示板)

Link
 【1】 高周波の基礎    *リンク先は「Excel 2003」で作成
Version
Size
RF01
  1. はじめに (概要)
v.05E12
079kB
RF02
  2. 高周波用語 
v.05E11
098kB
RF03
  3. RF電力の反射とは 
v.05E11
071kB
RF04
  4. スミス・チャート (Smith Chart)
v.05E11
147kB
RF05
  5. 伝送回路. (電力伝達の条件)
v.05E11
132kB
RF06
  6. S・パラメータ (電子回路網をブラックボックスとして解析できる)
v.05E11
173kB
RF07
  7. RFネットワーク・アナライザ測定 (S・パラメータ測定器)
v.05E11
191kB
RF08
  8. 高周波電力計測の不確かさ. (電力計測機器の応用)
v.05E11
062kB
RF09
  9. 反射係数:反射波:反射波電力 dB dBm 換算算出表.
v.05E11
058kB
Q&A2
 10. 損失のある整合 Q&A2   *整合インピーダンはの設計・製作に必須の事項。
v.06B
038kB
 
Link
 【2】 RF電源とインピーダンス整合器とプラズマ処理 
Versiom
Size
RF11
 11. RFプラズマ処理装置の高周波応用とその現状. (ブロック略図)
v.06G01
62kB
RF12
 12. 高周波電源に必要な仕様書   (設計・製作仕様).
v.07aa
44kB
RF13
 13. 高周波電源のソース・マッチ. (不整合負荷出力電力不確かさ特性) 
v.03CA
123kB
RF14
 14. 高周波電源のパワーマージン. (不整合負荷出力電力特性)
v.000
62kB
RF15
 15. インピーダンス整合器に必要な仕様書  (設計・製作仕様).
v.05A
57kB
RF16
 16. 損失のあるインピーダンス整合器の【動作インピーダンス】測定.
v.07a
82kB
RF17
 17. RF電力の伝達損失とプラズマ処理生成電力、パラメータの測定.
v.05
00kB
RF18
 18. 高速度・高角度インピーダンス整合器の電子回路の考察.
v.05
00kB
RF19
 19. 新世代インピーダンス整合器のAプロセス制御の考察.
v.05
00kB
RF20
 20. 参考情報 ・ 参考文献  (半導体)
v.05G01
43kB
PT01  21. 特許  RF-IKE_SYSTEM  (RFプラズマ処理 RF電力伝達系)
    【 特許第 3768999号 】 「プラズマ処理装置とその制御方法」 2006/02/10.
    【特許第 4417905号】 「インピーダンス整合器の実抵抗算出方法」 
v.06 00kB
 * 本ページはまだ未完成のため一部削除および保護しています。   <工事中>
       * 本ページおよびリンク先の情報を元に障害・損害に関し、管理者は責任を持ちかねます。

    特許:RF プラズマ処理装置のプラズマ生成高周波電力制御

    電力制御をするには【整合インピーダンス】を正しく実測しなけらばならないが、
   「整合」された状態で測定するには、インピーダンスメータ等では計測不能です。
   整合器の「動作インピーダンス」を把握し、高周波電力制御可能にする・・・   
       瀬戸内海の だるま夕日・夕景写真とシミュレーション、夕景情報があります。
 Impedance matching network.  Plasma impedance.  Matching impedance.
 IKE-SYSTEM   RF_impedance  インピーダンス整合器  整合インピーダンス  損失のある  Lossy  Impedance Matching Networks  整合回路 
 高周波  Radio Frequency  RF Generator  RF Power  高周波電力計測  影像インピーダンス  Image impedance  S-parameter  プラズマ処理 
 Plasma Processing  Plasma Processing  Plasma Processing  Plasma Processing  Plasma Processing  Plasma Processing  Plasma Processing JA5IDB
 Plasma Chamber プラズマインピーダンス Plasma impedance  ロードプル Load match アドバンスト・プロセス・コントロール  APC JA5IDB 池之内 澄英
 Advanced Process Control  Uncertainty    S-parameter  S-NAP (MEL.Inc)   Network Analyzer
  *夕景 夕日 夕陽 ゆうひ だるま夕日 写真